最近、インテルと日本の産業技術総合研究所（AIST）が協力協定を締結し、日本でチップ製造に特化した研究開発センターの設立を計画しています。
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このセンターは、日本初となる極紫外線（EUV）露光装置を備えた施設となります。EUV技術は、5ナノメートル以下の最小サイズのチップセット製造に使用されます。
この新設研究開発センターはAISTが運営し、インテルはEUV技術に関する専門知識を提供します。これは、日本のチップ設計者がAISTとインテルと協力して最新の技術を活用し、グローバル市場における競争力を高める機会を得ることを意味します。
EUV露光装置は非常に高価であり、1台あたり約2億ドルかかることに注意が必要です。現在、日本の企業は、ベルギーのImecなどの海外機関を通じて、この高度な技術にアクセスしています。また、日本の半導体企業Rapidusも12月に独自のImec EUV技術の導入を計画しています。
新研究開発センターの建設には3～5年かかると予想され、EUV装置の高価格を考慮すると、総費用は数億ドルに上る可能性があります。このセンターは、チップ製造業者や材料会社にサービスを提供し、料金を徴収する重要なリソースとなります。
インテルとAISTの協力は、日本の半導体産業の発展を促進するだけでなく、より多くの国際協力と投資を呼び込み、日本がグローバル半導体市場における地位を強化する上で役立ちます。
要点：
🌟 インテルと日本のAISTが協力し、国内のEUV技術の空白を埋める先進的なチップ研究開発センターを設立。
💰 新センターは高価な極紫外線露光装置を備え、チップ設計者の競争力向上に貢献。
🏗️ 建設には3～5年かかると予想され、総投資額は数億ドルに上り、日本の半導体産業にとって重要な資源となる。
