最近，英特尔与日本的国家先进工业科学技术研究所（AIST）达成了合作协议，计划在日本建立一个专注于芯片制造的研发中心。
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这一中心将是日本首个配备极紫外光（EUV）设备的设施，EUV 技术用于制造最小的芯片组，尺寸可达5纳米或更小。
这个新建的研发中心将由 AIST 运营，而英特尔则会提供在 EUV 技术方面的专业知识。这意味着，日本的芯片设计师们将有机会与 AIST 和英特尔合作，利用最新的工艺技术，提升他们在全球市场的竞争力。
需要指出的是，EUV 设备的成本相当高昂，每一台设备的价格大约在2亿美元左右。目前，日本的企业通常通过海外机构，比如比利时的 Imec，来接触这种先进的技术。而日本半导体公司 Rapidus 也计划在12月安装自己的 Imec EUV 技术。
新研发中心的建设预计将需要三到五年的时间，考虑到 EUV 设备的高价，整体费用可能会达到数亿美元。这个中心将成为一个重要的资源，为芯片制造商和材料公司提供服务，收取一定的费用。
英特尔和 AIST 的合作不仅能够帮助日本的半导体行业向前迈进一步，还能吸引更多的国际合作与投资，助力日本在全球半导体市场中的地位。
划重点:
🌟 英特尔与日本 AIST 合作，设立先进芯片研发中心，填补国内 EUV 技术空白。
💰 新中心将配备昂贵的极紫外光设备，助力芯片设计师提升竞争力。
🏗️ 预计建设需三到五年，总投资将达数亿美元，成为日本半导体行业的重要资源。