インテルと国立研究開発法人産業技術総合研究所（AIST）は、日本に極紫外線（EUV）露光装置を備えた初のチップ製造研究開発センターを共同で設立します。5ナノメートル以下のチップ製造に適したEUV技術により、日本のチップ設計者はAISTとインテルとの連携を通じて最先端技術を活用し、グローバル競争力を強化できます。3～5年を予定するこのセンターの建設には、数億ドル規模の投資が見込まれ、半導体メーカーや材料企業向けのリソースとして、費用を徴収する予定です。この協力は、…