英特尔与日本国家先进工业科学技术研究所（AIST）合作，在日本建立首个配备极紫外光（EUV）设备的芯片制造研发中心。EUV技术适用于制造5纳米及以下的芯片，这将为日本的芯片设计师提供与AIST和英特尔合作的机会，利用最新工艺技术，增强其全球竞争力。该中心的建设预计耗时三到五年，总投资预计数亿美元，将作为半导体制造商和材料公司的资源，收取费用。这一合作不仅有助于提升日本半导体行业地位，还可能吸引更多国际合作与投资。